(19)国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告 号 (45)授权公告日 (21)申请 号 202221714303.6 (22)申请日 2022.06.28 (73)专利权人 上海华方巨量半导体科技有限公 司 地址 201203 上海市浦东 新区中国 （上海） 自由贸易试验区郭守敬路498号8幢19 号楼3层 (72)发明人 陈弥彰　 (74)专利代理 机构 上海弼兴律师事务所 31283 专利代理师 何桥云　周颖 (51)Int.Cl. B65G 47/74(2006.01) B65G 47/82(2006.01) (54)实用新型名称 微米元件非接 触式转置装置 (57)摘要 本实用新型公开了一种微米元件非接触式 转置装置， 包括下料装置以及位于所述下料装置 下方的接收基板， 所述下料装置包括用于放置微 米元件的来源基板以及用于照射所述微米元件 上感光胶使所述微米元件落入所述接收基板的 照射机构， 所述微米元件非接触式转置装置还包 括平动机构和旋转机构， 所述平动机构用于带动 所述来源基板相对所述接收基板平动， 所述旋转 机构用于 带动所述来源基板自身旋转。 本装置能 够扩大微米元件的转移范围， 实现高速大量的微 米芯片转移。 权利要求书1页 说明书5页 附图4页 CN 217599728 U 2022.10.18 CN 217599728 U 1.一种微米元件非接触式转置装置， 包括下料装置以及位于所述下料装置下方的接收 基板， 所述下料装置包括用于放置微米元件的来源基板以及用于照射所述微米元件上感光 胶使所述微米元件落入所述接 收基板的照射机构， 其特征在于： 所述微米元件非接触式转 置装置还包括平动机构和旋转机构， 所述平动机构用于带动所述来源基板相对所述接收基 板平动， 所述旋转机构用于带动所述 来源基板自身旋转。 2.如权利要求1所述的微米元件非接触式转置装置， 其特征在于： 所述平动机构包括用 于带动来源基板水平移动的第一移动机构以及用于带动接 收基板水平移动的第二移动机 构， 所述第一移动机构和第二移动机构的移动方向垂直。 3.如权利要求2所述的微米元件非接触式转置装置， 其特征在于： 所述平动机构还包括 用于带动所述下 料装置竖向移动的第三移动机构。 4.如权利要求3所述的微米元件非接触式转置装置， 其特征在于： 所述微米元件非接触 式转置装置包括横跨设于所述接收基板上方的龙门柱， 所述第一移动机构设于所述龙门柱 上， 所述第三移动机构连接所述第一移动机构。 5.如权利要求1所述的微米元件非接触式转置装置， 其特征在于： 所述下料装置还包括 用于调节所述 来源基板与照射机构间距离的光学微调机构。 6.如权利要求1所述的微米元件非接触式转置装置， 其特 征在于， 所述旋转机构包括： 导向部， 所述 导向部为圆弧形； 转动部， 所述转动部的一端设有圆弧形的配合部， 圆弧形的所述配合部与所述导向部 滑动连接， 所述 转动部的另一端设有承载部， 所述承载部用于放置所述 来源基板； 调节机构， 所述调节机构安装在所述转动部上， 所述调节机构驱动所述转动部沿着所 述导向部的周向运动。 7.如权利要求6所述的微米元件非接触式转置装置， 其特征在于， 所述导向部与所述配 合部以圆弧形滑轨和圆弧形滑块的配合的方式滑动， 所述导向部与所述配合部中的一个为 圆弧形滑轨， 另一个为圆弧形滑块。 8.如权利要求6所述的微米元件非接触式转置装置， 其特征在于， 所述调节机构包括齿 轮和齿条， 所述齿轮与所述齿 条啮合， 所述齿条为圆弧形； 圆弧形的所述齿条与圆弧形的所 述导向部同心。 9.如权利要求8所述的微米元件非接触式转置装置， 其特征在于， 所述齿条的圆心、 所 述导向部的圆心与所述承载部的中心重合。 10.如权利要求8所述的微米元件非接触式转置装置， 其特征在于， 所述调节机构还包 括动力源， 所述动力源的输出端与所述齿轮连接， 所述动力源驱动齿轮转动带动所述齿条 运动， 从而驱动所述 转动部沿着所述 导向部周向滑动。权　利　要　求　书 1/1 页 2 CN 217599728 U 2微米元件非接 触式转置 装置 技术领域 [0001]本实用新型涉及微电子器件制造领域， 尤其涉及一种微米元件非接触式转置装 置。 背景技术 [0002]光机系统操控光束透过来源基板照射在待被转移的微元件上， 致使微元件与来源 基板间的感光性胶材气化消失或感光失去黏着力而使得微元件由来源基板下落到接 收基 板上的预定位置。 其光束可以是借 由光学镜组收束为小径光束， 再以双轴或三轴反射振镜 进行选择性扫描， 或是借由光学镜组扩束为大径光束， 再借由光罩、 DMD(Digital   Micromirror  Device)/DLP(Digital  Light Processing)或LCOS(Liquid  Crystal on  Silicon)等数位 光学元件进行选择性同步扫描。 [0003]虽然光机系统可以高速扫描来源基板上的微元件数组达到高速、 大量的转移， 但 是由于受到光学元件及镜组口径的 限制， 可扫描的范围相当有限通常小于直径100mm， 难以 兼顾其高速、 大量的转移特性并且 难以扩展转移范围。 实用新型内容 [0004]本实用新型要解决的技术问题是为了克服现有光机系统因光机扫描范围有限， 导 致难以实现高速大量转移并难以扩展转移范围的缺陷， 提供一种微米元件非接触式转置装 置。 [0005]本实用新型通过如下 方式解决该技 术问题： [0006]一种微米元件非接触式转置装置， 包括下料装置以及位于所述下料装置下方的接 收基板， 所述下料装置包括用于放置微米元件的来源基板以及用于照射所述微米元件上感 光胶使所述微米元件落入所述接收基板的照射机构， 所述微米元件非接触式转置装置还包 括平动机构和旋转机构， 所述平动机构用于带动所述来源基板相对所述接 收基板平动， 所 述旋转机构用于带动所述 来源基板自身旋转。 [0007]当需要下料时， 平动机构带动来源基板运行至接收基板上指定接受位置的正上 方， 旋转机构带动来源基板转动使其对齐接 收基板上 的接收位置， 照射机构照射来源基板 使微米元件脱落至接收基板， 完成转置， 随后平动机构， 旋转机构带动来源基板对齐接收基 板上的另一接收位置， 再次下料。 由此扩大了微米元件的转移范围， 能够实现高速大量的微 米芯片转移。 [0008]优选的， 所述平动机构包括用于带动来源基板水平移动的第一移动机构以及用于 带动接收基板水平移动的第二移动机构， 所述第一移动机构和 第二移动机构的移动方向垂 直。 [0009]通过设置移动方向垂直的第一移动机构和第二移动机构实现了接收基板相对来 源基板在水平面上 的相对移动。 同时， 两个移动机构分别用于驱动来源基板和基板相比采 用两组叠置的移动机够来实现水平移动的方式而言， 不易出现移动误差叠加的问题， 有利说　明　书 1/5 页 3 CN 217599728 U 3