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ICS.71.040.40 N33 中华人民共和国国家标准 GB/T20176—2006/ISO14237:2000 表面化学分析二次离子质谱 用均匀掺杂物质测定硅中硼的原子浓度 Surface chemical analysisSecondary-ion mass spectrometry-Determination of boron atomic concentration in silicon using uniformly doped materials (ISO14237:2000,IDT) 2006-03-27发布 2006-11-01实施 中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局 发布 中国国家标准化管理委员会 GB/T20176—2006/ISO14237:2000 目 次 前言 引言 范围 2 规范性引用文件 3 原理 4 参考物质 5 仪器 6 样品 1 步骤 8 结果表述 测试报告 附录A(资料性附录) 硅片中载流子浓度的确定 附录B(资料性附录) 用SIMS测量硼同位素比 附录C(规范性附录) 仪器性能的评估步骤 10 附录D(规范性附录) NISTSRM2137深度剖析步骤 12 ,附录E(资料性附录) 巡回测试统计报告 14
GB-T 20176-2006 表面化学分析 二次离子质谱 用均匀掺杂物质测定硅中硼的原子浓度
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